問題詳情

36下列關於微影製程之敘述何者不正確？
(A) 必須先設計製作光罩
(B) 須使用刷子將光阻劑均勻塗佈在晶圓上
(C) 曝光前，光阻須要經過烘烤，以去除光阻液中的溶劑
(D) 通常使用紫外線進行曝光

參考答案

答案：B
難度：適中0.438
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