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6. 一般板材吸水時 Tg 的變化為何?(A)上升;(B)不變;(C)下降;(D)先上升後下降
問題詳情
6. 一般板材吸水時 Tg 的變化為何?
(A)上升;
(B)不變;
(C)下降;
(D)先上升後下降
參考答案
答案:C
難度:
適中
0.6
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5. 玻纖主要是為了增加板材內的?(A)彈性;(B)塑性;(C)脆性;(D)剛性
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7. PP(Prepreg,膠片)經過壓合後固化(Curing),主要是因為何種反應?(A)氧化還原反應;(B)賈凡尼反應;(C)交聯聚合反應;(D)電解反應
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8. 銅箔基板的主要架構分為哪三個部分?(A)銅皮、玻璃纖維、樹脂;(B)樹脂、添加劑、銅皮;(C)添加劑、銅皮、玻璃纖維;(D)玻璃纖維、阻燃劑、樹脂
9. 關於硬板材料基板相關的規定與說明,其規範在下列哪一個 IPC 國際規範中可查詢?(A)IPC-6012;(B)IPC-4101;(C)IPC-4552;(D)JSD-020
10. 銅箔基板依照其特殊功能來分類,下列何者不是特殊功能板材? (A)抗 UV;(B)高介電性能板;(C)高 TG 板;(D)耐吸濕板
11. 銅箔基板依據板厚來分為常規板與薄板,IPC 規範內界定多少 mm 以下為薄板?(A)2 mm;(B) 1 mm;(C) 0.5mm;(D) 0.1mm
12. 生銅箔的後處理分為粗化處理(Roughing Treating)/抗熱處理(Thermal Resistance Treating)/抗氧化處理(Anti Tarnish Treating)三
13. 一般板材或成品板吸濕後最容易出現的問題為何?(A)表面異色;(B)材料氧化;(C)受熱後分層爆板;(D)板材軟化
14. 下列何者不是 Prepreg 在基板壓合的重要特性?(A)接着性;(B)流變性;(C)填充性;(D)耐熱性
15. 因應無鉛化的需求,材料商在 lead-free 的基板內添加何種樹脂?(A)線性酚醛樹脂 PN(Phenolic Novolac);(B) FR-4 基本環氧樹脂 EP(Epoxy);(C)
16. 在電路板業界稱其“厚度為 1oz”銅箔厚度表示法其銅箔平均厚度為?(A) 9 µm;(B) 18 µm;(C) 35 µm;(D) 70 µm
17. 在傳統的 PCB 使用材料中,下列哪一種幾乎沒有在使用?(A) ABF;(B) FR4;(C) PN;(D) Epoxy
18. PCB 濕製程流程(電鍍/微影/表面處理…)前都有一道前處理工序,其中微蝕最大的功用為何?(A)增加藥水的反應;(B)清除銅面的氧化物;(C)降低反應時間;(D)增加產出
19. PCB 中芯板是雙面板的產品有 12 層疊構設計,請問它需要經過幾次的壓合工序?(A) 6;(B) 5;(C) 4;(D) 3
20. 可用何種方法來確認壓合流程中,前處理是使用黑化或替棕化的藥水?(A)反應後銅面的顏色來區別;(B) SEM 觀察;(C)切片分析;(D)銅面粗糙度判定
21. 一般 PCB 使用乾膜蓋孔法蝕刻(Tenting process)來製作線路,其下列哪一個為正確的流程順序?(A)蝕刻、壓膜、顯像、去膜、曝光;(B)壓膜、顯像、曝光、蝕刻、去膜;(C)壓膜、
22. 下列何者不是垂直電鍍線(VCP)中 SPC 裡所管控的指標?(A)氯離子濃度;(B)硫酸根濃度;(C)氫氧根濃度;(D)光澤劑濃度
23. 電鍍過程中大電流協助鍍銅結晶以柱狀方式增厚的是?(A)光澤劑;(B)整平劑;(C)潤濕劑;(D)載運劑
24. 下列何者不是發生氣泡型孔破的影響因子?(A)雷射能量過大;(B)鈀活化槽內的潤濕(Wetting)能力;(C)雷射發數過多;(D)化銅槽內產生的氫氣泡
25. PCB 板內不同層別連通主要靠哪個製程完成?(A)壓合、微影;(B)微影、防焊;(C)防焊、電鍍;(D)鑽孔、電鍍
26. 目前使用最廣泛的表面處理為何?(A)ENIG、Im-Ag;(B) Im-Sn、OSP;(C) ENIG、OSP;(D) ENEPIG、ENIG
27. 表面處理流程中依 IMC 的生成狀況分為銅基地與鎳基地,其良好的 IMC 結構應分別為下列哪兩者(銅基地/鎳基地)?(A)Cu6Sn5 與 Ni3Sn4;(B) Cu6Sn5 與 AuSn4;
28. 表面處理 OSP 的產線上,往往可以聞到一股濃濃的酸味,請問是生產過程中使用了何種溶劑?(A) CH3OOH;(B) C2H5OOH;(C) CH3H7OOH;(D) HCl
29. 表面處理 OSP 的產品,電測出貨前的流程,下列何者是正確的? (A)終檢、電測、OSP;(B)電測、OSP、終檢;(C) OSP、電測、終檢;(D) OSP、終檢、電測
30. 為確保 PCB 出貨前電性功能都是正常的,工廠內有 2W(兩線式電測)/4W(四線式電測)的測試,下列說法何者正確?(A)測完 2W 再測 4W;(B)測完 4W 再測 2W;(C)同時一起測
31. 電鍍製程中常用的兩種流程 Pattern platting / Tenting platting,下列敘述何者正確?(A) Pattern platting 線路是蝕刻出來的(減除法);(B)
32. 電鍍銅流程中二次銅主要目的為何?(A)增加導電能力;(B)加厚線路和通孔銅厚;(C)提升美觀;(D)提升生產的效能