問題詳情

49.下列有關微影製程之敘述何者不正確?
(A)必須先製作光罩
(B)以刷子在晶圓上塗佈光阻劑
(C)氰光阻液要再經過烘烤除去光組液內之溶劑
(D)以紫外線曝光

參考答案

答案:B
難度:適中0.444
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