問題詳情

21. 積體電路是臺灣在科技業中的重要發展項目，關於積體電路的光學顯影過程下列何者正確？
(A)覆蓋薄模→塗上光阻→顯影→蝕刻→去除光阻
(B)覆蓋薄模→塗上光阻→蝕刻→顯影→去除光阻
(C)塗上光阻→覆蓋薄模→顯影→蝕刻→去除光阻
(D)塗上光阻→覆蓋薄模→蝕刻→顯影→去除光阻

參考答案

答案：A
難度：非常困難0.091
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