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• 56 為了同時關閉硬腭與軟腭裂，下列相關敘述何者錯誤？(A)利用鼻黏膜、肌肉及口腔黏膜三層法修補軟腭(B)利用鼻黏膜、肌肉及口腔黏膜三層法修補硬腭(C)可利用梨骨黏膜瓣（vomer flap）關閉單側
• 57 以下何者並非 Compton effect 的物理性質？(A) X 光子碰撞組織的原子外層電子 (B)電子被碰撞後在測試中產生離子化反應(C) X 光子碰撞組織的原子內層電子 (D)包含吸收（a
• 58 下列那幾項為 X 光管中之散熱裝置？①銅塊 ②銀塊 ③金塊 ④油 ⑤水(A)①⑤ (B)②④ (C)①④ (D)③⑤
• 59 放射線是一種能量，於空間與物質間產生能量的傳輸，它經常以下列何種形態出現？(A) Electron and neutron (B) Neutron and proton(C) Electroma
• 60 當牙科 X 光機之電壓（kVp）昇高時，下列何種現象為正確？(A)電壓昇高時穿透力較強，影像對比不影響 (B)電壓昇高時穿透力較強，影像對比較高(C)電壓下降時穿透力較小，影像對比較低 (D)電
• 61 診斷用放射線影像的 optical density（OD）約在那個範圍之間？(A) 0.025～0.25 (B) 0.25～2.5 (C) 3.25～4.5 (D) 5.25～6.5
• 62 有關環口攝影術（Panoramic radiography）鬼影（ghost image）之敘述，下列何者正確？(A)物體位於 X 光光源與旋轉中心之間 (B)所造成影像之比例通常近似原物體(C
• 63 下列何項措施不能提高 X 光片影像清晰度（sharpness）？(A)較小的焦點區（focal spot area）(B)使用環形錐（circular cone）(C)使用較長的焦點與片距（fo
• 64 下列何者可減小影像放大（image magnification）之效應？(A)使用長錐（long cone）(B)使用短錐（short cone）(C)減少焦點與皮膚之距離（focal spot
• 65 在上顎後牙的根尖片中，下列何種組織結構最不可能出現？(A)上顎竇底 (B)鼻腔底部(C)鼻淚管（nasolacrimal canal） (D)前鼻棘（anterior nasal spine）
• 66 有關囊腫的 X 光檢查，下列敘述何者錯誤？(A)很少見到呈現放射線透性（radiolucent）的病灶(B)如果囊腫存在的時間較久，可於病灶內產生鈣化的小點(C)有些囊腫內有中隔（septa）的
• 25. An ethyl group that is attached to a substituent that does not contain a hydrogen atomappears a
• 25.氯原子含有兩個同位素: Cl-35 (75.8 %)和Cl-37(24.2 %)。請算出氯原子之原子量。(A)36.0 (B) 35.4 (C) 35.5 (D) 35.52
• 2 對於口乾症的患者，下列何種食物不會幫助唾液的產生或利於吞嚥？(A)牛奶 (B)無糖口香糖 (C)全麥麵包 (D)油條
• 3 在製作全口義齒時，若上顎義齒腭部的型態不適當（malformation），會影響下列那些子音的發音？(A) k，s (B) m，n (C) t，d (D) f，v
• 4 下列何項是最容易影響全口義齒病人唾液流量率（flow rate）的因素？(A)年齡 (B)性別 (C)是否初次配戴全口義齒 (D)服用藥物狀況
• 5 上顎全口義齒後緣理想的最終線應在何處？(A)硬軟腭交界線上 (B)腭小窩（fovea palatinae）上(C)振動線（vibrating line）上 (D)兩側鉤狀切跡（hamular no
• 6 在全口義齒組織面下之承載區，下列何者不是壓力承載區（stress bearing area）？(A)上顎後方齒槽（maxillary residual ridge） (B)下顎頰棚（mandib
• 31. 有關鉻離子 (原子序 = 24, 質量數 = 52), 下列敘述何者正確?(A)總共有24個質子，24個中子, 24個電子(B)總共有24個質子，28個中子，24個電子(C)總共有24個質子
• 7 下顎全口義齒遠心頰側邊緣的延伸取決於下列那條肌肉？(A)顳肌（temporalis muscle） (B)咬肌（masseter muscle）(C)頰肌（buccinator muscle） (
• 8 下列有關上顎種植體支持的覆蓋式義齒之敘述中，那些是正確的？ ①種植體的數量，一般使用兩根便足夠 ②種植體的長度，應該≥10 mm ③如使用的種植體長度較短，則應以個別的附連體，提供固位性 ④以短橫
• 9 下列關於全口義齒咬合堤（occlusion rim）的敘述，何者不正確？(A)設計成為全口義齒部位的暫時性替代物(B)包括試戴性義齒基底和蠟堤(C)屬於暫時性，故要求原則以柔軟性為主，準確性、穩定
• 10 在製作全口義齒時，技工室重置位（laboratory remount）的主要目的為何？(A)修正面弓轉移（face-bow transfer）時所造成的上顎主模型位置誤差(B)修正不正確的上下顎
• 11 製作全口義齒時，以下有關咬合堤（occlusion rim）咬合平面之敘述，何者為非？(A)由額面（frontal surface）觀之，平行於兩瞳連線(B)由矢狀面（sagittal plan
• 12 在全口義齒的製作中，下列何者用口內哥德弓描繪（gothic arch tracing）來決定？(A)上顎牙弓與頭顱之關係位置(B)上下顎之咬合垂直高度（occlusal vertical dim