問題詳情

48. 考慮貝他粒子的屏蔽設計時，若 Z 為屏蔽物質的原子序，則應
(A)內層利用高 Z 物質作為吸收貝他粒子，外層用低 Z 物質來降低制動輻射
(B)內層利用高 Z 物質來降低制動輻射，外層用低 Z 物質作為吸收貝他粒子用
(C)內層利用低 Z 物質來降低制動輻射，外層用高 Z 物質作為吸收貝他粒子用
(D)內層利用低 Z 物質作為吸收貝他粒子，外層用高 Z 物質來降低制動輻射。

參考答案

答案：D
難度：適中0.5
統計：A(0),B(0),C(0),D(0),E(0)

用户評論

【【站僕】摩檸Morning】評論

原本題目:48. 考慮貝他粒子的屏蔽設計時，若 Z 為屏蔽物質的原子序，則應5(A)內層利用高 Z 物質作為吸收貝他粒子，外層用低 Z 物質來降低制動輻射(B)內層利用高 Z 物質來降低制動輻射，外層用低 Z 物質作為吸收貝他粒子用(C)內層利用低 Z 物質來降低制動輻射，外層用高 Z 物質作為吸收貝他粒子用(D)內層利用低 Z 物質作為吸收貝他粒子，外層用高 Z 物質來降低制動輻射。修改成為48. 考慮貝他粒子的屏蔽設計時，若 Z 為屏蔽物質的原子序，則應(A)內層利用高 Z 物質作為吸收貝他粒子，外層用低 Z 物質來降低制動輻射(B)內層利用高 Z 物質來降低制動輻射，外層用低 Z 物質作為吸收貝他粒子用(C)內層利用低 Z 物質來降低制動輻射，外層用高 Z 物質作為吸收貝他粒子用(D)內層利用低 Z 物質作為吸收貝他粒子，外層用高 Z 物質來降低制動輻射。