問題詳情

37.化學氣相蒸鍍法(CVD)所使用之前置物(precursors)在鎳基超合金高溫鍍層之應用，主要為下列 何物？
(A)鹵化物
(B)金屬有機化合物
(C)氫化物
(D)碳醯

參考答案

答案：A
難度：適中0.5
統計：A(0),B(0),C(0),D(0),E(0)