問題詳情

37.有關半導體製程之敘述,下列何者不正確?
(A)光罩(Photomask)是通常用石英玻璃製作,塗佈鉻金屬作為遮光用途
(B)光阻(Photoresist)可分為正光阻與負光阻兩種
(C)矽是半導體,業界常利用其多晶特性來製作電子零件
(D)半導體係利用電子或電洞傳導電。

參考答案

答案:C
難度:困難0.292
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