28.製作可撤式局部義齒時,下列何者是舌側槓(lingual bar)之適應症?(A)下顎門牙太向舌側傾斜(B)下顎前牙區之舌側嚴重倒凹(undercut)(C)下顎舌側有無法去除之隆凸(torus)
29.製作活動義齒金屬支架過程中,主模型的下列那一部位需做外形封凹(shaped blockout)?(A)無牙嵴置放樹脂基底(resin base)部位(B)非支架覆蓋之組織倒凹(tissue un
30.可撤式局部義齒(removable partial denture)做析量(surveying)時,下列何者不是記錄置入及取出途徑(path of insertion and removal)的
31.有關局部義齒治療計劃之敘述,下列何者錯誤?(A)訂定局部義齒治療計畫時,對於無牙區後方未萌出的智齒,應考慮盡速將其拔除(B)對於齲齒率較高的患者,不適合製作嵌體(inlay)(C)為了避免形成組
32.有關單側大臼齒區缺牙的贋復原則之敘述,下列何者錯誤?(A)恢復咀嚼功能為最首要考量(B)防止對咬牙突出(extrusion)為重要的治療目標(C)若缺牙區在上顎,應考慮將粗隆(tuberosit
33.下列有關流質蠟功能性印模(fluid wax functional impression)在可撤式局部義齒應用的敘述,何者錯誤?(A)此法最常用的蠟有 Iowa Wax 及 Korrecta W
34.在下顎遠伸性可撤式局部義齒,下列何者為提供水平方向穩定度的最主要來源?(A)頰棚(buccal shelf)(B)臼齒後墊(retromolar pad)(C)殘嵴尖(crest of resi
35.有關 Kennedy Class IV 可撤式局部義齒咬合模式之敘述,下列何者錯誤?(A)義齒製作可防止對咬的自然門牙(natural incisors)繼續突出(extrusion)(B)在中
36.上下顎皆為甘迺迪第一類(Kennedy Class I)可撤式局部義齒贋復之病例,下列何種咬合因素較可由醫師作決定? ①髁導引 ②門齒導引 ③咬合平面 ④補償曲線(A)②③(B)②④(C)③④(
37.在製作上顎可撤式局部義齒時,下列何者必須提供門齒乳頭(incisive papilla)與正中腭縫(median palatine raphe)等區域緩壓(relief)?(A)當覆蓋於此區域之
38.使用解剖型印模(anatomic form impression)技術於下顎遠心端局部缺牙印模時,比較容易造成那一部分牙嵴(ridge)受到較大的壓力?(A)靠近牙齒的近心牙嵴(B)遠離牙齒的遠
39.有關可撤式局部義齒清潔維護之敘述,下列何者正確?(A)在吃完食物後應用牙刷及牙膏刷洗義齒(B)晚上睡覺時可用次氯酸(hypochlorite)浸泡義齒去除牙菌斑(C)出外吃飯無法刷牙時可取出義齒
40.下列何者不是鍛製金屬線固位性牙鉤(wrought wire retentive clasp)的特性?(A)切面呈圓形,比半圓形切面的鑄造牙鉤對牙齒產上較低之作用力(B)鍛製金屬線固位性牙鉤較容易
41.下圖為下顎可撤式局部義齒構件的簡圖,請依此選擇一個正確的敘述?【題組】41(A)是所謂 RPA 系統(B)有明顯組織倒凹時不適用(C)不必考慮支柱牙附近之前庭(vestibule)深度(D)甘迺
【題組】42.承上題,請問下列何者正確?(A)使用鈷鉻合金(cobalt - chromium alloy)時,應選擇 0.01 inch(0.25 mm)的倒凹(B)常使用位於遠心部位的倒凹(C)不
43.患者口內上下顎各只剩 6 顆前牙,若希望在可撤式局部義齒上排出平衡咬合(balancedocclusion),下列何種既存之前牙咬合關係,最不容易達成此一咬合要求?【題組】43(A)垂直覆蓋(o
【題組】44.承上題,如果該患者上顎門牙出現牙間隙(diastema)與震顫(fremitus)現象,下列敘述何者錯誤?(A)患者的咬合習慣可能往前移(B)怕患者有適應困難,製作義齒時最好維持現有顎間
45.有關支柱牙的修形,下列何者違反生物學考量(biologic consideration )?(A)須保留較多的齒質(B)邊緣置於牙齦下(subgingival margin)(C)避免過廓(ov
46.牙冠修形時,不小心會在邊緣形成唇緣(lipping),下列何者是主要原因?(A)做齒齦上邊緣之牙冠修形(B)做齒齦下邊緣之牙冠修形(C)以圓頭錐形(round-ended tapered)磨針修
47.有關面弓轉移之敘述,下列何者正確?(A)以定軸面弓(kinematic facebow)轉移時,多利用外耳道定位(B)在眼角與耳珠連線上,以耳珠前方13毫米處為樞鈕軸(hinge axis),比
48.以下何種消毒劑適合用在消毒alginate與polyether兩種印模材?(A)Iodophors(B)95% alcohol(C)Chlorine compounds(D)2% glutara