問題詳情

8. 矽是半導體科技發展的關鍵元素,在高溫下氫氣與四氣化矽(Sicl4)反應,可製取高純度的矽,該反應的化學反應式為:

,關於反應式中「X物質」的特性,下列敘迹何者正確?
(A)X的化學式為 HCI
(B)此化學反應屬於分解反應
(C)此反應式中X物質的係數為2
(D)四氣化矽中矽元素和氣元素的質量比為1 : 4



參考答案

答案：A
難度：計算中-1
書單：沒有書單，新增

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