問題詳情

12. 化學氣相沉積法(CVD)是半導體製造程序中常用的技術之一，其功能為何？
(A)在晶圓表面鍍上一層薄層
(B)去除晶圓表面的雜質
(C)使晶圓表面平滑光亮
(D)將晶圓表面的一層薄層侵蝕掉

參考答案

答案：A

統計：A:2,B:0,C:0,D:0,E:0

難度：計算中