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四、在半導體曝光顯影製程中,對於所使用的光阻(photo resist):【題組】⑴請說明正光阻與負光阻之特性差異。(10 分)
問題詳情
四、在半導體曝光顯影製程中,對於所使用的光阻(photo resist):
【題組】
⑴請說明正光阻與負光阻之特性差異。(10 分)
參考答案
答案:C
難度:簡單0.859829
統計:A(30),B(22),C(503),D(30),E(0)
用户評論
【用戶】
Chang Po-Feng
【年級】國三上
【評論內容】私立學校法第46條
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