問題詳情

18 關於全瓷冠支架(all ceramics frame)燒瓷前的熱處理,何者正確?
(A)用 1000℃進行 15 分鐘的支架熱處理
(B)用 1000℃進行 5 分鐘的支架熱處理
(C)用 2700℃進行 15 分鐘的支架熱處理
(D)用 2700℃進行 5 分鐘的支架熱處理

參考答案

答案:B[無官方正解]
難度:適中0.666667
統計:A(1),B(2),C(0),D(0),E(0)