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3. 下列何者不是銅箔基板用於製作印刷電路板必需具有之特性要求?(A)尺寸安定性;(B)通孔加工性;(C)防焊性;(D)表面平整性
問題詳情
3. 下列何者不是銅箔基板用於製作印刷電路板必需具有之特性要求?
(A)尺寸安定性;
(B)通孔加工性;
(C)防焊性;
(D)表面平整性
參考答案
答案:C
難度:
適中
0.6
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2. 下列何者不是高頻(RF)用印刷電路板結構設計與材料發展之考慮因素?(A)介電常數(Dk);(B)防焊材質;(C)損耗正切(Df);(D)層數
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4. 下列何者非三層式(接著劑型)軟式銅箔基板(Flexible Copper Clad Laminate)的基本組成?(A)玻璃纖維;(B)銅箔;(C)樹脂;(D)接著劑
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5. 下列何者非製作銅箔基板之流程?(A)調合;(B)含浸;(C)疊層;(D)鑽孔
6. 比較印刷電路板與積體電路製作相似性,下列何者有誤?(A)基材相同;(B)均需蝕刻;(C)皆要影像轉移;(D)均有金屬導線
7. 銅箔基板尺寸為 36 英吋✖ 48 英吋,則下列之工作尺寸何者可使邊料最少,且製作PCB 之單位成本最低?(A) 6 英吋 ✖ 12 英吋;(B) 12 英吋 ✖ 16 英吋;(C) 18 英吋
8. 雷射鑽孔相較於機械鑽孔有許多優勢,下列關於雷射鑽孔的描述何者有誤?(A)紅外線雷射係利用紅外線的熱能熔化或汽化有機物分子,以形成微小孔洞;(B)紫外線雷射係利用其光學能直接將材料之分子鍵打斷,使
9. 下列何者不是內層線路製作常用的物料?(A)光阻劑;(B)酸性蝕刻液;(C)顯影液;(D)硫酸銅
10. 下列何者非業界常用的孔壁金屬化製程?(A)化學鎳;(B)黑碳;(C)石墨;(D)化學銅
11. 下列哪ㄧ項製程和座標無關?(A)雷射直接成像;(B)鑽孔;(C)電鍍;(D)成型
12. 下列那ㄧ項是電路板基材的非電性特性?(A)介電常數(Dielectric Constant);(B)介電強度(Dielectric Strength);(C)玻璃轉換溫度(Tg);(D)絕緣電
13. 軟板材料聚酯(Polyester)的敘述與聚亞醯胺(Polyimide)的比較,下列何者有誤?(A)成本較聚亞醯胺低;(B)吸濕率較低;(C)抗化性佳;(D)適合極冷的環境
14. 軟板採用的導體,以銅為主,銅箔的製作分為二大類:電解銅箔(Electro-Deposited;ED)和壓延銅箔(Rolled annealed;RA),下列敍述何者有誤?(A) RA 銅箔較貴
15. 關於電路板加工的要求,下列敍述何者有誤?(A)基板翹曲會造成線路對位的偏差;(B)電路板玻璃轉化點 Tg 越高代表熱安定性越不好;(C)電路板製程中會用到大量的化學品;(D)對於細線的加工,電
16. 下列那一種玻璃纖維布的厚度最薄?(A) 7628;(B) 2116;(C) 1506;(D) 106
17. 玻璃纖維在基板中的功用是作為補強材料,下列敍述何者有誤?(A)玻璃纖維吸濕性低;(B)玻璃纖維是混合物;(C)玻璃纖維是聚合物;(D)玻璃纖維是無機物
18. 電子產品需求牽動半導體元件的發展,對電路板材質特性要求,带來很多挑戰,在微波高頻材料下列電路板材料敍述何者有誤?(A)介電常數(Dk)必須小而且很穩定;(B)介電損耗(Df)必須小;(C)吸水
19. 銅面處理→光阻貼附→曝光→DES→AOI→對位沖孔,是描述下列那一個製程?(A)外層製作;(B)防焊漆製作;(C)壓板前棕化製作;(D)內層製作
20. 內層銅面前處理,可分為三類 1.噴砂研磨法 2.濕式化學處理法 3.機械研磨法,下列何者敍述對機械研磨法有誤?(A)設備簡單容易操作;(B)適合薄板,細線路板;(C)成本低廉;(D)毛刷耐磨性
21. 在下列那一個製程,作業員工須著裝無塵衣?(A)內層板曝光室;(B)內層板前處理;(C)電鍍;(D)機械鑽孔
22. 下列那一項電路板原物料保存有溼度 50%以下的要求?(A)膠片(Prepreg);(B)鑽頭(Drill Bit);(C)銅箔基板(CCL);(D)銅球(Copper Ball)
23. 在鑽孔製程會用到下墊板,下列何者非下墊板的功用?(A)保護鑽孔機的檯面;(B)降低鑽針溫度;(C)清潔鑽針溝槽中之膠渣;(D)防止壓力腳直接壓傷基板板面
24. 下列那一個製程不屬於濕製程?(A)電鍍;(B)外層顯影;(C)內層蝕刻;(D)成型加工
25. 銅面在一般環境中很容易氧化,導致無法上錫,因此會在要吃錫的銅墊上進行保護,下列哪一項不屬於金屬表面處理?(A)鍍銅;(B)有機保銲劑(OSP);(C)化錫;(D)化鎳浸金
26. 下列那一個測試項目屬於可靠度測試?(A)切片;(B)離子污染度;(C)阻抗;(D)溫度循環
27. PCB 濕製程流程(電鍍/微影/表面處理…)前都有一道前處理工序,其中微蝕最大的功用為何?(A)增加藥水的反應;(B)清除銅面的氧化物;(C)降低反應時間;(D)增加產出
28. 下列何者不是垂直電鍍線(VCP)中 SPC 裡所管控的指標?(A)氯離子濃度;(B)硫酸根濃度;(C)氫氧根濃度;(D)光澤劑濃度
29. 一般 PCB 使用乾膜蓋孔法蝕刻(Tenting process)來製作線路,其下列哪一個為正確的流程順序?(A)蝕刻、壓膜、顯像、去膜、曝光;(B)壓膜、顯像、曝光、蝕刻、去膜;(C)壓膜、