問題詳情

5 下列關於全瓷冠支架（all ceramic frame）燒瓷前處理之敘述，何者錯誤？
(A)燒瓷前噴砂處理使用之氧化鋁粒徑為 125 μm
(B)燒瓷前的熱處理溫度約為 1000℃
(C)燒瓷前噴砂處理時，噴嘴口距表面約 1 mm 進行邊緣極細的緣端部分噴砂
(D)燒瓷前的熱處理時間約需 5 分鐘

參考答案

答案：C
難度：簡單0.769231
統計：A(6),B(0),C(30),D(2),E(0)