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48. 關於線路影像轉移製程,下列敘述何者有誤?(A)無塵室等級要求;(B)黃光區域要求;(C)光阻或乾膜與銅箔間的附著能力要求;(D)曝光設備,LDI 曝光精度、品質較佳,相較於傳統底片對位方式,有
問題詳情
48. 關於線路影像轉移製程,下列敘述何者有誤?
(A)無塵室等級要求;
(B)黃光區域要求;
(C)光阻或乾膜與銅箔間的附著能力要求;
(D)曝光設備,LDI 曝光精度、品質較佳,相較於傳統底片對位方式,有產能上絕對優勢
參考答案
答案:D
難度:
適中
0.475
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47. 關於銅面前處理工序,下列敘述何者有誤?(A)去氧化、清潔銅面;(B)粗化銅面,增加後製程結合強度需求;(C)改善板材漲縮;(D)提升製程良率與可靠度
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49. 關於線路成型製程,下列敘述何者有誤?(A)顯像點是作為顯像條件設定的參考依據;(B)蝕刻因子是監控線路成型好壞指標,蝕刻因子越小,代表蝕刻製程能力越好;(C)顯像後如發現顯像不潔或固定缺損,是
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50. 電路板機械鑽孔是相當重要製程,下列何者非鑽孔製程驗孔必要檢查重點? (A)孔壁粗糙度;(B)孔位精度;(C)扯膠、毛邊;(D)孔徑大小
1. 因查禁鴉片遭到誣陷而獲罪,被清廷革職流放到邊疆伊犁,在流放途中寫下:「苟利國家生死以,豈因禍福避趨之」詩句,表明心志的詩人應該是何人?(A)曾國藩 (B)林則徐(C)李鴻章 (D)劉銘傳。
2. 一般 PP(Prepreg,膠片)在經過壓合固化(Curing)後,會進入何種型態?(A) A-Stage;(B) B-Stage;(C) C-Stage;(D) D-Stage
3. Lead Free 無鉛化電路板基材中添加無機 SiO2 填料之重量比約 25%以上,造成板材脆性變大,對於 PCB 中哪一個製程困擾最大?(A)電鍍;(B)壓合;(C)鑽孔;(D)表面處理
4. 下列板材內的何種成分可以降低板彎翹(Warpage)?(A)樹脂 Resin;(B)粉料 Filler;(C)溴 Br;(D)磷 P
5. 玻纖主要是為了增加板材內的?(A)彈性;(B)塑性;(C)脆性;(D)剛性
6. 一般板材吸水時 Tg 的變化為何?(A)上升;(B)不變;(C)下降;(D)先上升後下降
7. PP(Prepreg,膠片)經過壓合後固化(Curing),主要是因為何種反應?(A)氧化還原反應;(B)賈凡尼反應;(C)交聯聚合反應;(D)電解反應
8. 銅箔基板的主要架構分為哪三個部分?(A)銅皮、玻璃纖維、樹脂;(B)樹脂、添加劑、銅皮;(C)添加劑、銅皮、玻璃纖維;(D)玻璃纖維、阻燃劑、樹脂
9. 關於硬板材料基板相關的規定與說明,其規範在下列哪一個 IPC 國際規範中可查詢?(A)IPC-6012;(B)IPC-4101;(C)IPC-4552;(D)JSD-020
10. 銅箔基板依照其特殊功能來分類,下列何者不是特殊功能板材? (A)抗 UV;(B)高介電性能板;(C)高 TG 板;(D)耐吸濕板
11. 銅箔基板依據板厚來分為常規板與薄板,IPC 規範內界定多少 mm 以下為薄板?(A)2 mm;(B) 1 mm;(C) 0.5mm;(D) 0.1mm
12. 生銅箔的後處理分為粗化處理(Roughing Treating)/抗熱處理(Thermal Resistance Treating)/抗氧化處理(Anti Tarnish Treating)三
13. 一般板材或成品板吸濕後最容易出現的問題為何?(A)表面異色;(B)材料氧化;(C)受熱後分層爆板;(D)板材軟化
14. 下列何者不是 Prepreg 在基板壓合的重要特性?(A)接着性;(B)流變性;(C)填充性;(D)耐熱性
15. 因應無鉛化的需求,材料商在 lead-free 的基板內添加何種樹脂?(A)線性酚醛樹脂 PN(Phenolic Novolac);(B) FR-4 基本環氧樹脂 EP(Epoxy);(C)
16. 在電路板業界稱其“厚度為 1oz”銅箔厚度表示法其銅箔平均厚度為?(A) 9 µm;(B) 18 µm;(C) 35 µm;(D) 70 µm
17. 在傳統的 PCB 使用材料中,下列哪一種幾乎沒有在使用?(A) ABF;(B) FR4;(C) PN;(D) Epoxy
18. PCB 濕製程流程(電鍍/微影/表面處理…)前都有一道前處理工序,其中微蝕最大的功用為何?(A)增加藥水的反應;(B)清除銅面的氧化物;(C)降低反應時間;(D)增加產出
19. PCB 中芯板是雙面板的產品有 12 層疊構設計,請問它需要經過幾次的壓合工序?(A) 6;(B) 5;(C) 4;(D) 3
20. 可用何種方法來確認壓合流程中,前處理是使用黑化或替棕化的藥水?(A)反應後銅面的顏色來區別;(B) SEM 觀察;(C)切片分析;(D)銅面粗糙度判定
21. 一般 PCB 使用乾膜蓋孔法蝕刻(Tenting process)來製作線路,其下列哪一個為正確的流程順序?(A)蝕刻、壓膜、顯像、去膜、曝光;(B)壓膜、顯像、曝光、蝕刻、去膜;(C)壓膜、
22. 下列何者不是垂直電鍍線(VCP)中 SPC 裡所管控的指標?(A)氯離子濃度;(B)硫酸根濃度;(C)氫氧根濃度;(D)光澤劑濃度
23. 電鍍過程中大電流協助鍍銅結晶以柱狀方式增厚的是?(A)光澤劑;(B)整平劑;(C)潤濕劑;(D)載運劑
24. 下列何者不是發生氣泡型孔破的影響因子?(A)雷射能量過大;(B)鈀活化槽內的潤濕(Wetting)能力;(C)雷射發數過多;(D)化銅槽內產生的氫氣泡