問題詳情
30.依照PIC/s GMP規範，原料藥生產製程中需進行不純物確認分析，下列何者為較合適的分析方法？
(A)電位滴定法
(B)重量分析法
(C)薄層層析法
(D)紫外光光譜法
參考答案
答案：C
難度：簡單0.730281
統計：A(86),B(115),C(1611),D(394),E(0)
用户評論
【用戶】^^
【年級】高三上
【評論內容】薄層層析可以看到所有成分且一次可檢測很多個樣品
【用戶】林逸儒
【年級】大一下
【評論內容】補充一下很像的氣相層析—PIC/s GMP中規定，藥物（包括原料藥及製劑）的製造過程中須有溶劑殘留量的檢測 若有第三溶劑則用重量分析法
【用戶】Ritalin
【年級】高二下
【評論內容】想問一下，紫外光不是也可以分析不純物嗎?
【用戶】吳飽豬
【年級】國三下
【評論內容】回樓上 紫外光的選擇性不佳，因此無法用來分析多種成分或是複方。推測應該是因為一次要看的不純物有很多種，所以用TLC比較適合。