41.半導體製程中，一般所謂的 16 奈米製程係指？ (A)線寬為0.0016μm (B)線寬為 0.016μm (C)膜厚為 0.0016μm (D)膜厚為 0.016μm

問題詳情

41.半導體製程中，一般所謂的 16 奈米製程係指？
(A)線寬為0.0016μm
(B)線寬為 0.016μm
(C)膜厚為 0.0016μm
(D)膜厚為 0.016μm

參考答案

答案：B
難度：適中0.556
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