【Klose Liu】評論

X光光電子能譜儀 (XPS)技術原理材料經由帶有能量的X光照射後形成光電效應，將內層軌域的電子激發產生光電子，只有在樣品表面所產生的光電子才能脫逸出而被測得，此被激發的光電子經偵檢器分析後，可測得光電子束縛能的能譜；由於不同元素、不同軌域所產生的光電子束縛能不同，所以可由束縛能得知此光電子來自於哪一種元素的哪一層軌域。 當元素與不同元素鍵結時，由於鍵結的電荷密度不同會導致光電子束縛能有些許改變，當氧化態越高其束縛能越高，可由此束縛能的改變得知其化學鍵結。   分析應用 1. 表面污染/異常之分析：由於光電子來自於最表面的1nm-10nm，且XPS具有化學鍵结分析的能力，能針對表面的異常分析得知其成份與鍵結訊息，如針對顏色異常、表面缺陷或金屬腐蝕進行分析。2. 薄膜成份及縱深分析：可由XPS得知薄膜的成分及比例，同時可搭配氬離子蝕刻作縱深分析。3. 金屬表面氧化程度及氧化層厚度判定：可得知金屬之表面比例、氧化程度, 表面氧化層厚度可透過非破壞性的分析(適用於膜厚小於10nm)或破壞性的縱深分析估計。4. 金屬材料功函數之分析：可由XPS得知金屬材料之功函數。 文字出處: https://www.ma-tek.com/zh-TW/services/index/XPS