【題組】 ⑵欲完成上述 DRAM 之製作至少需要幾道光罩（mask）？請按製程流程（processsequence），寫下光罩層的名稱與其目的。Al electrode for capacitorAl

問題詳情

【題組】 ⑵欲完成上述 DRAM 之製作至少需要幾道光罩（mask）？請按製程流程（processsequence），寫下光罩層的名稱與其目的。Al electrode for capacitorAl Al GateField Oxiden＋ n＋Gate oxidep-type Si圖二

答案：B
難度：簡單0.858347
統計：A(98),B(1018),C(14),D(5),E(0)