二、在積體電路後段製程（Backend Process）中：【題組】 ⑴請說明使用TEOS（Tetraethoxysilane, Si(OC2H5)4 ）來製作金屬層間氧化絕緣層SiO2（Inter-

問題詳情

二、在積體電路後段製程（Backend Process）中：
【題組】 ⑴請說明使用TEOS（Tetraethoxysilane, Si(OC2H5)4 ）來製作金屬層間氧化絕緣層SiO2（Inter-Layer Dielectric, ILD），有何優缺點？（10 分）

答案：D
難度：簡單0.882892
統計：A(103),B(148),C(106),D(2699),E(1)

【用戶】陳彥樺

【年級】小五下

【評論內容】「美麗不是負擔！」可有二種解釋，{1}說明販售的化妝品價格不貴，荷包沒有負擔；{2}說明化妝品成份天然，肌膚不會有負擔(參考書解析內容)

【用戶】北極熊

【年級】大一上

【評論內容】我也覺得 A怪怪的怎麼看都是先成長才學習，有大大可以解答嗎

【用戶】心願澄

【年級】國二下

【評論內容】對啊我本來也在看A但是想說D太離譜 A是否出相反了

【用戶】Werther

【年級】大三下

【評論內容】我們當小孩的過程是不會懂爸媽的辛苦，等到自己當了爸媽，才知照顧、教導小孩不如想像那麽容易，這過程是陪著孩子學習如何為人父母。題目第一個爸爸是指結婚生子；第二個爸爸是指自身心境變化，當爸爸「之後」即指照顧小孩的階段，所以才會學習中成長。