問題詳情
⑵請說明 III-V 化合物半導體活性離子蝕刻（Reactive Ion Etching）結果跟那些製程參數有關。（10 分）
參考答案
答案：C
難度：簡單0.854977
統計：A(190),B(71),C(3496),D(332),E(0) #
個人：尚未作答書單：行為科學與後行為科學
用户評論
【用戶】王韋傑
【年級】高一上
【評論內容】POSDCORB傳統公共管理觀點全面品質管理,標竿學習新公共管理觀點
【用戶】C.Y H
【年級】大二下
【評論內容】點進網址，有詳細說明
【用戶】Kuei-Tzu Chan
【年級】高三下
【評論內容】謝謝樓上,原來是我沒有看清楚"流程再造與全面品質管理密切相關,流程再造突破了全面品質管理的許多方法。"
【用戶】流川楓
【年級】高三下
【評論內容】POSDCORB計劃(Planning)、組織(Organizing)、用人(Staffing)、指引(Directing)、協調(Coordination)、報告(Reporting)及預算(Budgeting)