問題詳情

四、在 IC 奈米化過程中,有許多新的製程技術被引用,其中高介電係數(High K)材料製程也是被引用技術之一,請詳細說明 High K 材料技術在 IC 奈米化過程可協助解決甚麼困難?(20 分)

參考答案

答案:C
難度:簡單0.806922
統計:A(118),B(87),C(1329),D(30),E(0) #
個人:尚未作答書單:卡芬頓-自我價值論、習得無助感、心理性動機

用户評論

Little-Blue L】評論

Weiner(1979)研究成就動機與歸因行為之間的關係,認為成就動機高者將成功歸因於內在因素的努力與能力,將失敗歸因於缺乏努力。成功屬於內在所控制,如果經歷持久而失敗,反而會認為是自己缺乏努力所致。成就動機低者,則自認能力較低,更傾向於將失敗歸因於能力,將成功歸因於外在或不穩定因素,如運氣好、工作容易。

崔蒂】評論

答案有誤吧

【站僕】摩檸Morning】評論

原本答案為A,修改為C